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                      BG-408雙工位曝光機

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                      BG-408雙工位曝光機

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                      產品編號
                      數量
                      -
                      +
                      庫存:
                      0
                      所屬分類
                      曝光設備
                      1
                      產品描述
                      參數
                      該設備為全自動曝光設備,主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品自動完成基片的傳輸、對準與曝光工藝,操作方便、生產效率高、穩定性高。

                      The machine is a full-automatic exposure, mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. Automatically completes the transmission, alignment and exposure process of substrate, which is convenient for operation, high production efficiency and high stability.

                      主要技術指標  Main Specifications

                       

                      性能名稱 技術指標 Performance name Technical indicators
                      基片最大尺寸 φ100mm Maxi. Size of Wafer φ100mm
                      掩模最大尺寸 125mm×125mm Maxi. Size of Mask 125 mm×125 mm
                      硅片或襯底厚度 0.2~1.1mm Wafer Thickness 0.3~1.1mm
                      生產效率   260片/小時(一次曝光,曝光時間3s) Productivity 260 wafer/h (first exposure, exposure time 3s)
                      工作臺 對準精度  5μm Worktable  Alignment Accuracy 5μm
                      曝光系統  曝光分辨率 2μm(接觸曝光,正膠膠厚1μm) Exposure System Exposure Resolution 2μm (Contact exposure, positive PR thick 1μm)

                       

                       

                       

                      關鍵詞:
                      曝光
                      對準
                      物鏡
                      系統
                      最大
                      傳輸
                      工作臺
                      倍率
                      方便
                      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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                      辦公室電話 : 010-61597089 / 010-61594769

                      手機 : 18618388462 / 13472363286 / 18601921522

                      公司地址 : 河北省三河市燕郊開發區海油大街253號

                      網址 : www.transberita.com

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