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SB-602雙面曝光機
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產品編號
數量
-
+
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所屬分類
曝光設備
1
產品描述
參數
該設備主要用于半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機械系統（MEMS）等領域的雙面對準和曝光。
The machine is mainly designed by double aligning and exposure process of photoelectric device, power device, sensors, hybrid circuits,micro wave device and MEMS etc.
主要技術指標 Main Specifications
| 性能名稱 | 技術指標 | Performance name | Technical index |
| 適用基片尺寸 | Max. φ6″（φ150mm） | Substrate Size | Max. φ6″（φ150mm） |
| 適用掩模版尺寸 | Max. φ6″（φ150mm） | Mask Size | Max. 7″（175mm×175mm） |
| 上下掩模版對準精度 | ±3μm | Mask Alignment Accuracy | ±3μm |
| 掩模對基片對準精度 | ±3μm（以單一面兩標記形位檢測） | Mask to Substrate Alignment Accuracy | ±3μm（Single-face two-mark detection） |
| 曝光分辨率 | 6μm（正膠、膠膜膜厚不大于1μm） | Exposure Resolution | 6μm（The thickness of positive PR and film is not more than 1μm） |
關鍵詞:
曝光
模版
對準
精度
結構
系統
采用
分離
機械手
上一個
SB-402雙面曝光機
下一個
BG-501曝光機
辦公室電話 : 010-61597089 / 010-61594769
手機 : 18618388462 / 13472363286 / 18601921522
公司地址 : 河北省三河市燕郊開發區海油大街253號
網址 : www.transberita.com
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