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                      SB-602雙面曝光機

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                      SB-602雙面曝光機

                      該設備主要用于半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機械系統(MEMS)等領域的雙面對準和曝光。
                      零售價
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                      市場價
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                      產品編號
                      數量
                      -
                      +
                      庫存:
                      0
                      所屬分類
                      曝光設備
                      1
                      產品描述
                      參數

                      該設備主要用于半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機械系統(MEMS)等領域的雙面對準和曝光。

                      The machine is mainly designed by double aligning and exposure process of photoelectric device, power device, sensors, hybrid circuits,micro wave device and MEMS etc.

                      主要技術指標  Main Specifications

                       

                      性能名稱 技術指標 Performance name Technical index
                      適用基片尺寸 Max. φ6″(φ150mm) Substrate Size Max. φ6″(φ150mm)
                      適用掩模版尺寸 Max. φ6″(φ150mm) Mask Size Max. 7″(175mm×175mm)
                      上下掩模版對準精度 ±3μm Mask Alignment Accuracy ±3μm
                      掩模對基片對準精度 ±3μm(以單一面兩標記形位檢測) Mask to Substrate Alignment Accuracy ±3μm(Single-face two-mark detection)
                      曝光分辨率 6μm(正膠、膠膜膜厚不大于1μm Exposure Resolution 6μm(The thickness of positive PR and film is not more than 1μm

                       

                      關鍵詞:
                      曝光
                      模版
                      對準
                      精度
                      結構
                      系統
                      采用
                      分離
                      機械手
                      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
                      三河建華高科

                      辦公室電話 : 010-61597089 / 010-61594769

                      手機 : 18618388462 / 13472363286 / 18601921522

                      公司地址 : 河北省三河市燕郊開發區海油大街253號

                      網址 : www.transberita.com

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