<thead id="7z97t"><ruby id="7z97t"><span id="7z97t"></span></ruby></thead><form id="7z97t"></form>

    
    
        <address id="7z97t"><rp id="7z97t"><strike id="7z97t"></strike></rp></address>
        <form id="7z97t"><ol id="7z97t"><dl id="7z97t"></dl></ol></form>

        <strike id="7z97t"></strike>

                  <th id="7z97t"><rp id="7z97t"><dl id="7z97t"></dl></rp></th>

                    <big id="7z97t"></big>
                    <th id="7z97t"></th>

                      Product Center

                      產品中心

                      當前位置:
                      首頁
                      >
                      >
                      >
                      BG-401B曝光機(LED)

                      產品分類

                      瀏覽量:
                      1000

                      BG-401B曝光機(LED)

                      主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品采用LED光源,操作方便、穩定性高、重復性好,并具有較高的性能價格比,可廣泛應用于科研和生產。
                      零售價
                      0.0
                      市場價
                      0.0
                      瀏覽量:
                      1000
                      產品編號
                      數量
                      -
                      +
                      庫存:
                      0
                      所屬分類
                      曝光設備
                      1
                      產品描述
                      參數

                      主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品采用LED光源,操作方便、穩定性高、重復性好,并具有較高的性能價格比,可廣泛應用于科研和生產。

                      The machine is mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. It is use LED light source, easy to operate, high stability, good repeatability, can be widely used in scientific research and production.

                      主要技術指標  Main Specifications

                       

                       

                      性能名稱 技術指標 Performance name Technical index
                      適用基片尺寸 Max. φ4″(φ100mm) Substrate Size Max. φ4″(φ100mm)
                      適用掩模版尺寸 Max. 5″(125mm×125mm) Mask Size Max. 5″(125mm×125mm)
                      基片與掩模版分離間隙 0~0.05mm Separation Gap Between Substrate and Mask 0~0.05mm
                      對準精度 ±1μm Alignment Accuracy ±1μm
                      曝光光源 UVLED燈 Exposure Light Source UVLED lamp
                      曝光分辨率 1.5μm(正膠真空復?。?/span> Exposure Resolution 1.5μm(Positive PR  Vacuum contact)
                      關鍵詞:
                      曝光
                      視場
                      采用
                      分離
                      主要
                      對準
                      尺寸
                      設備
                      光強
                      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
                      三河建華高科

                      辦公室電話 : 010-61597089 / 010-61594769

                      手機 : 18618388462 / 13472363286 / 18601921522

                      公司地址 : 河北省三河市燕郊開發區海油大街253號

                      網址 : www.transberita.com

                      手機站

                      銷售微信

                      手機站

                      銷售微信

                      Copyright ? 2021 三河建華高科有限責任公司  版權所有  冀ICP備2021017682號-1   中企動力  北京

                      Language
                      国产xxxx视频在线观看软件_小泽玛利亚一区二区在线观看_欧美videosgratis杂交_国产精品任我爽爆在线播放